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來源：慧正資訊 2024-10-29 16:08
慧正資訊，近日從湖北華中科技大學傳來消息，該校武漢光電國家研究中心團隊在國內(nèi)率先攻克合成光刻膠所需的原料和配方，這一具有里程碑的進展，助推我國芯片制造關(guān)鍵原材料突破瓶頸。據(jù)悉，其研發(fā)的T150A光刻膠系列產(chǎn)品已通過半導體工藝量產(chǎn)驗證，實現(xiàn)了原材料全部國產(chǎn)，配方全自主設(shè)計，有望開創(chuàng)國內(nèi)半導體光刻制造新局面。
光刻膠是一種感光材料，用于芯片制造的光刻環(huán)節(jié)，工作原理類似于照相機的膠卷曝光。芯片制造時，會在晶圓上涂上光刻膠，在掩膜版上繪制好電路圖。當光線透過掩膜版照射到光刻膠上會發(fā)生曝光，經(jīng)過一系列處理后，晶圓上就會得到所需的電路圖。由于光刻膠是芯片制造的關(guān)鍵材料，國外企業(yè)對其原料和配方高度保密，目前我國所使用的光刻膠九成以上依賴進口。
太紫微核心研發(fā)團隊成員（前排左一為朱明強教授）
立足于關(guān)鍵光刻膠底層技術(shù)研究，致力于半導體專用高端電子化學品原材料和光刻膠的開發(fā)，并以新技術(shù)路線為半導體制造開辟新型先進光刻制造技術(shù)，同時為材料的分析與驗證提供全面的手段。
據(jù)市場預(yù)測，2024年全球光刻機市場規(guī)模有望達到295.7億至315億美元之間，顯示出強勁的增長勢頭。2023年中國光刻機產(chǎn)量為124臺，而需求量高達727臺，顯示出中國市場對光刻機的巨大需求。
2023年中國光刻機市場規(guī)模已突破160.87億元，預(yù)計未來幾年將繼續(xù)保持快速增長。這主要得益于中國半導體產(chǎn)業(yè)的加速崛起以及政府對半導體產(chǎn)業(yè)的持續(xù)投入和支持。中國作為全球最大的芯片消費國之一，正在加速推動芯片在國內(nèi)的制造和應(yīng)用。隨著新能源汽車、5G通信等產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，中國對高端光刻機的需求將進一步增加。
