11月12日，久日新材在投資者互動平臺表示，大晶新材4500噸/年光刻膠生產(chǎn)線預計今年12月底前投產(chǎn)，項目進展情況敬請關(guān)注公司后續(xù)相關(guān)公告。

此前的8月20日，久日新材發(fā)布關(guān)于部分募集資金投資項目延期的公告，公司將對募集資金投資項目“徐州大晶新材料科技集團有限公司年產(chǎn)4,500噸光刻膠項目”達到預定可使用狀態(tài)日期進行變更。該項目年產(chǎn)面板光刻膠4000噸、半導體光刻膠500噸。公司結(jié)合大晶新材項目的實際進展情況，在募集資金投資用途及投資規(guī)模不發(fā)生變更的情況下，擬對該募集資金投資項目達到預定可使用狀態(tài)日期進行調(diào)整。具體情況如下：

在大晶新材項目建設過程中，公司項目建設團隊及韓國技術(shù)專家對項目設計方案及思路進行了重新論證，在此基礎(chǔ)上公司對項目建設內(nèi)容進行了部分調(diào)整：

在設備制造過程中，增加中期監(jiān)造以及發(fā)貨前的清洗檢測要求，并全程跟蹤；

部分動力設備和主要儀表等主要控制元件由在國內(nèi)購買改為進口。

以上調(diào)整導致部分設備的制造周期延長，造成延期交付。

此外，出于環(huán)境因素及生產(chǎn)效率方面的考慮，公司在施工過程中還增加了施工環(huán)境檢測、每日焊機參數(shù)評定等工作。公司在保證項目建設質(zhì)量的前提下，推遲達到預定可使用狀態(tài)日期，以便于在投產(chǎn)后公司產(chǎn)品能快速融入市場。

目前，大晶新材項目的基礎(chǔ)設施已經(jīng)建設、安裝完成，但考慮到大晶新材項目辦理試生產(chǎn)備案等相關(guān)手續(xù)尚需一段時間，因此公司擬將項目達到預定可使用狀態(tài)日期延期至2024年12月。

光刻膠是利用光化學反應經(jīng)光刻工藝將所需要的微細圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)，由成膜劑、光敏劑、溶劑和添加劑等主要化學品成分和其他助劑組成，在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下，其溶解度發(fā)生變化，經(jīng)適當溶劑處理，溶去可溶性部分，最終得到所需圖像。其被廣泛應用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細圖形線路的加工制作，是微細加工技術(shù)的關(guān)鍵性材料。

在光刻工藝中，光刻膠被均勻涂布在硅片、玻璃和金屬等不同的襯底上，經(jīng)曝光、顯影和蝕刻等工序?qū)⒀谀ぐ嫔系膱D形轉(zhuǎn)移到薄膜上，形成與掩膜版完全對應的幾何圖形。光刻膠按顯示的效果，可分為正性光刻膠和負性光刻膠，如果顯影時未曝光部分溶解于顯影液，形成的圖形與掩膜版相反，稱為負性光刻膠；如果顯影時曝光部分溶解于顯影液，形成的圖形與掩膜版相同，稱為正性光刻膠。

按照應用領(lǐng)域，光刻膠可主要分為以下幾個類型和品種：

其中，PCB光刻膠的技術(shù)壁壘相對較低，半導體光刻膠的技術(shù)門檻最高。當前全球光刻膠市場基本被日美廠商壟斷，其中日本合成橡膠（JSR）、東京應化（TOK）、杜邦、信越化學、住友化學等五大廠商壟斷了接近85%的市場份額，而日本廠商占比在70%左右。

目前國內(nèi)廠商主要以紫外寬譜、g線、i線、PCB光刻膠、TFT-LCD光刻膠等產(chǎn)品為主，國內(nèi)廠商在該等產(chǎn)品領(lǐng)域已經(jīng)占據(jù)了一定的市場份額，而在KrF、ArF/ArFi、EUV等中高端光刻膠領(lǐng)域，仍主要依賴于進口。

根據(jù)中國電子材料行業(yè)協(xié)會統(tǒng)計，2022年中國集成電路、新型顯示、PCB三大領(lǐng)域用光刻膠市場規(guī)模合計達146.81億元，其中集成電路用光刻膠市場規(guī)模46.29億元，占比31.5%；新型顯示用光刻膠62.92億元，占比42.90%；PCB用光刻膠37.6億元，占比25.60%。

2022年中國集成電路晶圓制造用光刻膠市場規(guī)模達到33.58億元，同比增長約13.5%，預計到2025年中國集成電路晶圓制造用光刻膠市場規(guī)模將達到37.64億元；2022年中國集成電路封裝用光刻膠市場規(guī)模12.71億元，同比增長10.3%，預計到2025年市場規(guī)模將增長至13.84億元。

從國內(nèi)布局的企業(yè)來看，除了久日新材外，光刻膠生產(chǎn)企業(yè)主要還有南大光電、容大感光、晶瑞電材、華懋科技、飛凱材料、廣信材料。